激光光刻機(jī)

簡(jiǎn)要描述：DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對(duì)工業(yè)級(jí)灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化，設(shè)計(jì)用于集成電路、MEMS、微光學(xué)和微流體器件、傳感器、全息圖以及防偽特征的掩模和晶圓的高通量圖案化。

專業(yè)灰度光刻模式可以在大面積的厚光刻膠中對(duì)復(fù)雜的 2.5D 結(jié)構(gòu)進(jìn)行圖案化。最小特征尺寸為 500 nm，寫(xiě)入?yún)^(qū)域最大為 400 x 400 mm

產(chǎn)品型號(hào)：DWL 2000 GS / DWL 4000 GS
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時(shí)間：2025-06-05
訪問(wèn) 量： 827

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詳細(xì)介紹

寫(xiě)入模式	我	第二	第三	四	V
寫(xiě)作性能 - 灰度
覆蓋層 [3σ， nm]（超過(guò) 8“ x 8"）			300
像素網(wǎng)格灰度 [nm]	100	200	250	500	1000
寫(xiě)入速度 DWL 2000 GS [mm2/分鐘]	12	50	75	270	870
寫(xiě)入速度 DWL 4000 GS [mm2/分鐘]	12	50	75	270	1000
暴露時(shí)間 DWL 2000 GS：適用于 200 mm x 200 mm [小時(shí)]	51	13.5	9	2.5	0.8
曝光時(shí)間 DWL 4000 GS：適用于 400 mm x 400 mm [小時(shí)]	223	54	36	10	3
最大劑量 [mJ/cm2 ]	5600	1400	900	225	50

寫(xiě)入性能 - 二進(jìn)制
最小特征尺寸 [μm]	0.5	0.7	0.8	1	2
最小行數(shù)和間距 [μm]	0.7	0.9	1	1.5	3
地址網(wǎng)格 [nm]	5	10	12.5	25	50
邊緣粗糙度 [3σ， nm]	40	50	60	80	110
CD均勻度 [3σ， nm]	60	70	80	130	180
注冊(cè) [3σ， nm]	200	200	200	200	200
寫(xiě)入速度 [mm2/minute] DWL 2000 GS	12	50	75	270	870
寫(xiě)入速度 [mm2/minute] DWL 4000 GS	12	50	75	270	1000

系統(tǒng)特點(diǎn)
光源	405 nm 的二極管激光器
最大基板尺寸	DWL 2000 GS：9 英寸 x 9 英寸 / DWL 4000 GS：17 英寸 x 17 英寸
基板厚度	0 至 12 mm
最大曝光面積	DWL 2000 GS：200 x 200 平方毫米 / DWL 4000 GS：400 x 400 平方毫米
溫控流量箱	溫度穩(wěn)定性 ± 0.1°，ISO 4 環(huán)境
實(shí)時(shí)自動(dòng)對(duì)焦	光學(xué)自動(dòng)對(duì)焦或氣壓計(jì)自動(dòng)對(duì)焦
自動(dòng)對(duì)焦補(bǔ)償范圍	80微米

系統(tǒng)尺寸
光刻單元（寬度×深度×高度）;重量	2350 毫米× 1650 毫米× 2100 毫米;3000 千克
電子架（寬度×深度×高度）;重量	800 毫米× 600 毫米× 1800 毫米;180 千克

安裝要求
電氣	400 VAC ± 5 %， 50/60 赫茲， 16 A
壓縮空氣	6 - 10 巴
潔凈室	建議使用 ISO 6 或更高